Артикул: 516-169
Модель: СВЕ-17(5Ж)
Секция: Дополнительная
Компактный источник питания для магнетронного распыления
Источник питания предназначен прежде всего для источника магнетронного распыления. Эффективность устройства превышает 90 %, а уровень запасённой энергии на выходе остаётся низким. Встроенная схема подавляет дуговой разряд в процессах, чувствительных к дуге, и управляет дугой при продолжительных дуговых процессах. Органы управления на передней панели позволяют выбирать регулирование по постоянной мощности, току или напряжению. Мощность можно плавно доводить до заданного значения. Максимальная выходная мощность составляет 500 Вт, максимальный выходной ток — 0,8 А. Разрешение по напряжению равно 1,0 В, разрешение по току — 1 мА, точность управления — +1 %. Выход оснащён гнездовым разъёмом. Дополнительно можно заказать высоковакуумный источник магнетронного распыления размером 50,8 мм. Быстросъёмный высоковакуумный соединитель с внутренним диаметром 19,05 мм предназначен для установки распылительного инструмента на опорную плиту вакуумной камеры толщиной до 25,4 мм со сквозным отверстием диаметром 25,4 мм.
Задать вопрос Искать на Baidu
Какую задачу решает источник питания для магнетронного распыления
Источник питания для магнетронного распыления используют в лабораторных процессах нанесения тонких плёнок.
Характеристики СВЕ-17(5Ж)
Модель (по базе 91Т)СВЕ-17(5Ж)
Входпеременный ток 220 В, ±10%
Размерширина 440 мм × высота 85 мм × глубина 403 мм; 88 × 442 × 514 мм
Источник питания для магнетронного распыления - гибкость поставки.
Мы осознаём, что у каждого проекта свои особенности. В связи с этим мы можем обсудить изменение технических характеристик, типоразмеров и комплектации СВЕ-17(5Ж) под условия эксплуатации (на мощностях оригинального производителя или нашего завода в России).
Мы осознаём, что у каждого проекта свои особенности. В связи с этим мы можем обсудить изменение технических характеристик, типоразмеров и комплектации СВЕ-17(5Ж) под условия эксплуатации (на мощностях оригинального производителя или нашего завода в России).
Дата последней проверки актуальности данных: 26.09.26
Данные о производителе и характеристиках проверены.
Люди, которые искали Источник питания для магнетронного распыления, также смотрели:
+4 фотоПлазменно-ассистированная плавильная печь
Модель: ЕСИ-44(4Я)
Плазменно-ассистированная плавильная печь оснащена вакуумной камерой из нержавеющей стали с внутренним диаметром 315 мм и высотой 315 мм. Для входного питания требуется переменный ток 208–240 В, частота 50/60 Гц, трёхфазная схема и ток 50 А.
+2 фотоТрёхмерный волоконный лазерный станок для резки металла с ЧПУ, 6-осевой, точность траектории ±0,53 мм
Модель: ПЛУ-92(1Я)
Трёхмерный волоконный лазерный станок для резки металла выполнен на базе режущей головки, высокоточной ёмкостной системы слежения, волоконного лазера и промышленной роботизированной системы. Шесть осей подачи обеспечивают обработку заготовок нестандартной формы и резку с разных направлений в диапазо
+1 фотоВысоковакуумная система термического испарения с четырьмя источниками
Модель: ЖЛУ-95(7Г)
Оборудование предназначено для нанесения тонкоплёночных покрытий.
+4 фотоИндукционная вакуумная печь для сверхвысокотемпературной обработки
Модель: КФЭ-21(9Ю)
Печь рассчитана на нагрев до 3000 °C. Цифровой контроллер поддерживает программирование на 30 сегментов, инфракрасный датчик измеряет температуру, а также предусмотрена защита от перегрева и отказа термопары. Точность регулирования составляет ±2 °C; опциональный контроллер обеспечивает точность ±0,1


