Артикул: 513-335 Модель: ХМА-75(4У) Секция: Дополнительная

Плазменный очиститель объёмом 3 л

Кварцевая плазменная камера имеет диаметр 152,4 мм и длину 165,1 мм; дверца на петлях оснащена смотровым окном для загрузки образцов и наблюдения за процессом. Обрабатываемый образец может иметь размер до 101,6 мм. Для очистки можно выбирать плазму воздуха, кислорода, аргона, азота или смешанного газа; применение горючего газа не допускается. Скорость удаления органических загрязнений составляет около 20 нм/мин при высокой РЧ-мощности. РЧ-мощность регулируется на трёх уровнях: 7,2 Вт, 10,2 Вт и 30 Вт; рабочая частота составляет 13,56 МГц. Панель управления обеспечивает настройку времени очистки, РЧ-мощности и вакуумного насоса. В комплект входит двухступенчатый роторно-пластинчатый вакуумный насос с фильтром выхлопа и вакуумной трубкой. Входное питание — переменный ток 220 В, 50/60 Гц; для работы от 110 В может применяться трансформатор. Мощность вакуумного насоса составляет менее 500 Вт, суммарная мощность — менее 600 Вт. Габариты установки — 400 × 300 × 300 мм.
Наименование производителя3 L Plasma Cleaner with Vacuum Pump & Digital Controller, 6"Dx6.5"L Quartz Chamber - PCE6
Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает плазменный очиститель

Плазменный очиститель применяют для предварительной очистки монокристаллических подложек перед осаждением эпитаксиальных плёнок, а также для обработки подложек и пластин плазмой.
Очистка поверхностей

Характеристики ХМА-75(4У)

Модель (по базе 91Т)ХМА-75(4У)
Материалплазменный очиститель 3 л
ПриводРЧ-мощность: не более 30 Вт
Размер400 мм (длина) × 300 мм (ширина) × 300 мм (высота)
Типплазменный очиститель
Плазменный очиститель - гибкость поставки.
Каждый проект имеет свои особенности, и мы это учитываем. Именно поэтому по запросу мы уточним у производителя, возможна ли корректировка технических характеристик, типоразмеров и комплектации ХМА-75(4У) под условия применения (руками первого изготовителя или собственного производства в России).

Дата последней сверки данных: 06.10.26

Производитель и характеристики проверены.

Люди, которые искали Плазменный очиститель, также смотрели:

Промышленная 10-канальная измерительная станция с точностью 1 мкм

Промышленная 10-канальная измерительная станция с точностью 1 мкм

Модель: АМШ-87(2А)
Станция изготовлена из швеллерной стали.
Скважинный ловильный магнит для бурильной колонны и очистки забоя+5 фото

Скважинный ловильный магнит для бурильной колонны и очистки забоя

Модель: ЛЕТ-84(8С)
Скважинный ловильный магнит струнного типа служит вспомогательным инструментом, обеспечивающим нормальное бурение и очистку забоя после устранения аварийной ситуации в скважине. При выполнении ловильных работ магнит используют совместно с фрезером. Такой порядок отличается от прежней последовательно
Высокомощный одномодовый волоконный лазерный источник непрерывного излучения+3 фото

Высокомощный одномодовый волоконный лазерный источник непрерывного излучения

Модель: КЖИ-75(4Ж)
Волоконный лазерный источник выполнен по модульной схеме с встроенной системой. Конструкция не требует технического обслуживания и обеспечивает высокую надёжность. Мощность лазерного излучения регулируется непрерывно, при этом сохраняются высокое качество и стабильность лазерного пучка. Выход через
Шлифовальный станок по дереву для изготовления круглых прутков с регулируемым диаметром+5 фото

Шлифовальный станок по дереву для изготовления круглых прутков с регулируемым диаметром

Модель: ИШП-78(5Ж)
Шлифовальный станок по дереву предназначен для изготовления круглых прутков и стержней S- и C-образной формы. Диаметр регулируется, поэтому на оборудовании можно получать детали разных размеров. Мощность установленного двигателя составляет 3 кВт. Благодаря компактным габаритам станок имеет переносно