Магнетронная распылительная пушка для нанесения покрытий

Гибкая низкоомная распылительная головка диаметром 46,3 мм рассчитана на установку источников распыления диаметром 25,4 мм и подключение к источникам питания постоянного тока, импульсного постоянного тока и радиочастотного диапазона через стандартный гнездовой разъём HN. Высоковакуумная конструкция рассчитана на использование аргона при рабочем давлении примерно от 1 мТорр до 1 Торр; уменьшение столкновений газа внутри камеры способствует повышению качества покрытия. Круглые редкоземельные магниты изолированы от охлаждающей воды защитным антикоррозионным покрытием и могут заменяться на месте. Магнитный узел спроектирован с применением расчётов методом конечных элементов для получения высокой напряжённости и однородного профиля поля. Установка выполняется обычными инструментами, а смена мишени не требует приклеивания. Источник можно прогревать до 200 °C. В стандартную комплектацию входят медная опорная пластина размером 25,4 мм и одна медная мишень. Вал имеет наружный диаметр 19,05 мм и принимает мишени толщиной до 3,175 мм; диаметр мишени составляет 25,4 ± 0,508 мм. Максимальная мощность при постоянном токе составляет 250 Вт, при радиочастотном питании — 100 Вт; максимальный ток катода — 3 А, напряжение катода — 200–1000 В. Для охлаждения требуется фильтрованная вода с расходом 1,8927 л/мин и температурой на входе ниже 20 °C; применяются быстроразъёмные соединения с наружным диаметром 6,35 мм. Для радиочастотного подключения рекомендован кабель длиной 148 см. В комплект входит высоковакуумное быстроразъёмное соединение. Общая длина изделия составляет 355,6 мм, масса — 5 кг. Распылительная головка наклоняется в пределах ±45° для настройки угла падения бомбардировки и повышения выхода распыления; нанесённые на узле линии позволяют точно выставлять угол.

Наименование производителя

4-Inch Magnetron Sputtering Gun MG-SPC-4 | High Vacuum Thin Film Deposition System for Metal & Semiconductor Coating