Источник питания 40 кГц, 20 кВт для плазменной очистки в вакуумной плазменной установке

Name: Источник питания 40 кГц, 20 кВт для плазменной очистки в вакуумной плазменной установке
SKU: 515-391

Источник питания предназначен для плазменной очистки и использования с вакуумной плазменной установкой. Рабочая частота составляет 40 кГц, мощность — 20 кВт. ^*

*) Описание оборудования дано в том виде, в котором его подготовил иностранный производитель. Техническая и эстетическая доработка текста уже в планах инженеров отдела 91Т. Скоро мы уточним терминологию и технические характеристики, проверим нюансы и доработаем текст так, чтобы описание ИСУ-95(2Н) было исчерпывающим, а назначение и возможности оборудования — понятными и доступными. Если ждать не хочется — напишите нам вопрос прямо сейчас.

Наименование производителя

40kHz 20KW Plasma Cleaning Power Supply -WZP20 for Vacuum Plasma Cleaner

Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает источник питания для плазменной очистки

Источник питания для плазменной очистки используется в вакуумной плазменной установке для выполнения плазменной очистки.

Характеристики ИСУ-95(2Н)

Модель (по базе 91Т)ИСУ-95(2Н)

Основные компонентыисточник питания

Отчёт об испытаниях оборудованияпредоставлен

Мощность (Вт)20 кВт

Напряжениепеременное 380 В +10%

Источник питания для плазменной очистки - гибкость поставки.
Каждый проект имеет свои особенности, и мы это учитываем. Именно поэтому по запросу мы уточним у производителя, возможна ли корректировка технических характеристик, типоразмеров и комплектации ИСУ-95(2Н) под условия применения (руками первого изготовителя или собственного производства в России).

Дата актуализации информации: 26.09.26

Производитель и параметры оборудования проверены.