Лабораторная вакуумная установка для нанесения покрытий центрифугированием

Name: Лабораторная вакуумная установка для нанесения покрытий центрифугированием
SKU: 481-418

Компактное исполнение позволяет размещать установку в вытяжном шкафу или перчаточном боксе. Управление выполняется кнопками через текстовый жидкокристаллический экран. Память рассчитана на хранение до пяти рецептов, каждый из которых включает пять шагов вращения; дополнительно можно сохранить до десяти кривых нанесения с пятью сегментами в каждой. Чаша устойчива к химическим веществам, снимается для очистки, а прозрачная крышка устойчива к растворителям и закреплена на шарнире. В конструкции предусмотрены вакуумная блокировка и шпиндель с защитой от засорения. Скорость вращения достигает 10 000 об/мин, разрешение скорости составляет 1 об/мин, максимальное время шага составляет 3000 с, разрешение времени - 1 с. Максимальная скорость разгона составляет 10 000 об/мин/с. Установлен бесщеточный двигатель постоянного тока. Требуемое разрежение составляет 0,06-0,09 МПа при минимальном расходе 15 л/мин. Для вакуумного подключения используется трубка с внутренним диаметром 4 мм и внешним диаметром 6 мм. Камера выполнена из нержавеющей стали и оргстекла, корпус - из алюминиевого сплава. В стандартный комплект входят безмасляный вакуумный насос, электрический провод, руководство, картриджный предохранитель, шприц и три вакуумных держателя. Предусмотрена ручная подача материала и возможность подключения прецизионного шприцевого насоса.

Наименование производителя

EZ4 Laboratory Vacuum Spin Coater with Oil-Free Vacuum Pump and 3 Vacuum Chucks for Thin Film Research, High Speed 10,000 RPM EZ4 Vacuum Spin Coater OEM Customizable 4-inch Capacity Spray Sputter Coating System for Photoresist Wafer, Laboratory Digital Programmable Spin Coater,lab Spin Coating Machine for Max.4" Wafer, Lab Grade Vacuum Spin Coating Equipment High Uniformity Vacuum Spin Coater for Organic Inorganic Nanomaterials Film Preparation, 4 Inch Benchtop Spin Coater for OLED Organic Layer Deposition | High-Speed Lab R&D Coating Equipment, Benchtop Digital Spin Coater EZ4 Programmable Spin Processor Photoresist Sol-Gel Polymer Thin Film Coating Applications OEM MGSI, Benchtop Laboratory Spin Coater for 4" Wafers - High-Speed Thin Film Coating of Photoresists, Polymers & Sol-Gels EZ4-SS, EZ4 Spin Coater High-speed Benchtop Laboratory Spin Coating Machine with Pump for Photoresist Wafer Coating EZ4-S-PP

Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает установка для нанесения покрытий центрифугированием

Лабораторная установка для нанесения покрытий центрифугированием предназначена для нанесения покрытий на кремниевые полупроводниковые пластины, стеклянные предметные стекла, пластины, подложки и проводящее стекло.

Характеристики ХШЮ-28(4Е)

Модель (по базе 91Т)ХШЮ-28(4Е)

Грузоподъёмность101,6 мм; 100 мм

Материалвакуумная установка для нанесения покрытий центрифугированием; установка для нанесения покрытий центрифугированием; установка для нанесения покрытий центрифугированием для производства полупроводников

Размер210 мм (Ш) × 265 мм (Г) × 215 мм (В); 250 мм × 210 мм × 200 мм; 200 мм × 250 мм × 180 мм; 210 мм (Ш) × 265 мм (Г) × 213 мм (В)

Установка для нанесения покрытий центрифугированием - гибкость поставки.
Нам известно, что каждый проект имеет свою специфику. Поэтому мы готовы рассмотреть адаптацию технических характеристик, типоразмеров и комплектации ХШЮ-28(4Е) под ваши конкретные условия (силами исходного производителя либо нашего производства в России).

Информация проверена на актуальность: 24.09.26

Сведения о производителе и характеристиках актуальны.