УФ-установка для нанесения покрытий методом центрифугирования

УФ-установка для нанесения покрытий методом центрифугирования фиксирует образец вакуумной адсорбцией, что облегчает его размещение и извлечение. Верхняя крышка оснащена источником УФ-света с регулируемой интенсивностью. УФ-излучение быстро отверждает нанесённую плёнку на материалах, чувствительных к ультрафиолету, а лампа полимеризует мономер в полимерную плёнку. Центральное отверстие для ввода материала закрывается резиновой пробкой, если в камере требуется герметичная среда. Газовое отверстие служит для подключения защитного газа. Управление двигателем и УФ-светом разделено. Скорость регулируется одноплатным компьютером с ЖК-экраном, а УФ-лампа управляется ПЛК с высокой помехоустойчивостью. Диапазон вращения составляет 500–10000 об/мин. Одна программа включает две рабочие стадии; для каждой задаются отдельные время и скорость, а продолжительность выбирается от 0 до 60 с. На первой стадии материал постепенно распределяется, после чего установка автоматически переходит ко второй стадии для повышения равномерности покрытия. Быстрый запуск и стабильное вращение обеспечивают равномерную и устойчивую толщину плёнки. Конструкция предусматривает виброгашение для снижения шума при работе. Камера выполнена из полипропилена с повышенной стойкостью к химической коррозии и растрескиванию под напряжением, корпус — из литого алюминия. Мощность двигателя составляет 350 Вт при 24 В. Предусмотрены патроны диаметром 19 и 60 мм, а отверстия для защитного газа и вакуума имеют диаметр 8 мм. Мощность УФ-лампы настраивается от 8 до 30 Вт, время её работы — от 1 до 800 с. Габариты установки составляют 450 × 280 × 340 мм, масса — 20 кг.

Наименование производителя

Laboratory High-Speed Spin Coater with UV Cover with 10K RPM and 5" Max Diameter for Solar Cells Thin Film Layers, Laboratory VTC-600-1HD Dual-Head DC/RF Magnetron Sputtering Coater 2-Inch Vacuum Plasma Sputtering Dryer Oven