Лабораторный радиочастотный источник питания

Источник питания обеспечивает непрерывную выходную мощность до 600 Вт на нагрузке 50 Ом через задний коаксиальный разъём типа N. Регулировка частоты доступна для шести стандартных значений: 400 кГц, 2 МГц, 13,56 МГц, 27,12 МГц, 40,68 МГц и 60 МГц; стабильность частоты составляет ±0,005 %. В диапазоне уставки от 10 до 100 % максимального выхода точность регулирования равна ±2 Вт или ±1,0 % заданного значения, в зависимости от того, что больше. Кратковременная стабильность выходной уставки составляет ±1,0 % в течение одного непрерывного часа, долговременная — ±3,0 % в течение трёх лет непрерывной работы. Время нарастания до 90 % запрошенного уровня не превышает 200 мс. При нулевой уставке фактическая выходная мощность и мощность обратного считывания составляют менее 1,0 Вт. Входной сигнал имеет сопротивление не менее 10 кОм, а его изоляция относительно линии питания переменного тока — не менее 1000 В постоянного тока. Электрический вход рассчитан на 208 В переменного тока без нейтрали, одну фазу с заземлением, номинальную частоту сети 50/60 Гц и типичный ток 10 А. Охлаждение — принудительное воздушное. Рабочая температура составляет от +10 до +40 °C, относительная влажность — 5–85 %, давление окружающей среды — 86–106 кПа. Габариты корпуса составляют 21,6 × 13,4 × 46,9 см, масса — 9,1 кг. ^*

*) Описание представлено так, как его составил иностранный производитель. Отдел 91Т уже запланировал техническую и эстетическую правку этого текста. В ближайшее время мы уточним характеристики и терминологию, проверим технические нюансы и доработаем текст так, чтобы описание ЛЯГ-87(9В) отвечало на большинство возникающих вопросов, а назначение оборудования, его возможности и круг решаемых задач стали понятными и доступными. Если не хотите ждать — задайте вопрос прямо сейчас.

Наименование производителя

Laboratory Drying Equipment WT2-1KW 220V Medium Frequency Magnetron Sputtering Coating Power Supply, 2025 Hot Sale RF-600-LD 600W 60MHz High Frequency RF Generator Plasma Power Supply for Laboratory Thin Film Research, MGSI Laboratory WZP5-220V Medium Frequency (MF) Vacuum Cleaning Power Supply for Ultrasonic/PVD Applications, Laboratory 500W 1000W 2000W 13.56MHz Plasma RF Generator for DIY PECVD Furnace System , RF Power Supply, Laboratory WT2-MC-1KW Unipolar Pulse Bias Power Supply for Magnetron Sputtering/PVD Coating