Лабораторная система атомно-слоевого осаждения

Объем сосуда для осаждения порошка выбирается опционально; максимальный объем одной загрузки превышает 160 мл. Температура нагрева зоны осаждения регулируется от комнатной температуры до 300 °C с точностью ±1 °C, а температура прогрева камеры — от комнатной температуры до 150 °C с точностью ±1 °C. Стандартная система подачи прекурсоров имеет два канала и может быть расширена до шести и более каналов. В качестве газа-носителя используются азот или аргон. Доступны непрерывный режим и режим с остановкой потока. Эффективное покрытие частиц превышает 95% при нанесении пленки толщиной около 20 нм на порошковые частицы объемом 50 мл. Электропитание переменного тока имеет частоту 50–60 Гц, напряжение 220 В и ток 15 А. Конструкция включает металлический шкаф, съемные панели и регулируемые опоры для выравнивания; габариты составляют 1100 × 600 × 1200 мм. Производительность достигает 120 г/сут, предусмотрены варианты с другой производительностью. Расходными материалами служат угольные стержни, а катоды можно использовать повторно. Энергопотребление составляет 200 кВт·ч/сут. Расход гелия при стандартном давлении равен 600 л/сут, что соответствует одной десятой баллона объемом 40 л под давлением 15 МПа. Предусмотрены разные уровни доступа для инженеров по техническому обслуживанию и операторов: инженеры задают параметры, а операторы выполняют ежедневные операции. Температура, давление, ток, положение угольного стержня и другие эксплуатационные данные отображаются в реальном времени. Подача и управление состоянием оборудования автоматизированы; использование угольных стержней регистрируется с выдачей предупреждений, а нештатные состояния оборудования обрабатываются с подачей сигналов тревоги.

Наименование производителя

Powder Particle Coating Atomic Layer Deposition (ALD) System, Laboratory Research Fullerene Production System