Установка для очистки полупроводникового оборудования

Name: Установка для очистки полупроводникового оборудования
SKU: 540-867

Очистка выполняется с помощью очистителя высокого давления. Назначение установки — обезжиривание. Материал — металл / катушка. Напряжение — 220 В. ^*

*) Описание оборудования дано в том виде, в котором его подготовил иностранный производитель. Техническая и эстетическая доработка текста уже в планах инженеров отдела 91Т. Скоро мы уточним терминологию и технические характеристики, проверим нюансы и доработаем текст так, чтобы описание ХСЭ-78(5Э) было исчерпывающим, а назначение и возможности оборудования — понятными и доступными. Если ждать не хочется — напишите нам вопрос прямо сейчас.

Наименование производителя

Semiconductor Equipment Dry Ice Cleaning Machine for Precision Cleaning of Wafer

Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает установка для очистки оборудования

Установка используется для точной очистки полупроводниковых пластин сухим льдом.

Очистка поверхностей

Характеристики ХСЭ-78(5Э)

Модель (по базе 91Т)ХСЭ-78(5Э)

Процесс очисткисухой лёд

Тип очисткиочиститель высокого давления

Топливоэлектричество

Материалметалл / катушка

Назначениеобезжиривание

Напряжение220 В

Установка для очистки оборудования - гибкость поставки.
Мы учитываем, что каждый проект индивидуален. В связи с этим по запросу мы уточним, возможна ли донастройка технических характеристик, типоразмеров и комплектации ХСЭ-78(5Э) под ваши требования (усилиями первого изготовителя или собственного завода в России).

Дата актуализации информации: 27.09.26

Производитель и параметры оборудования проверены.