Трубчатая печь с плазменным источником

Система выполнена в виде трубчатой печи с раздвижной направляющей и разъёмной рабочей трубой. Доступны варианты кварцевой трубы с наружным диаметром 50, 80 или 130 мм; труба высокой чистоты устанавливается опционально. Рабочая температура достигает 1200 °C при нагреве продолжительностью менее 60 минут, а при непрерывном нагреве составляет до 1100 °C. В двухзонном исполнении длина каждой зоны равна 200 мм, общая длина нагрева — 400 мм, постоянная температурная область — 250 мм; в трёхзонном варианте общая длина нагрева составляет 600 мм, а постоянная температурная область — 480 мм. Зоны управляются раздельно, а контроллеры поддерживают 30 программируемых сегментов, автонастройку ПИД, защиту от перегрева и обрыва термопары, сигнализацию и точность ±1 °C. Вакуумный узел включает роторно-пластинчатый насос с двухступенчатой системой выпуска, переходником, трубой из нержавеющей стали и шаровым клапаном; в рабочей трубе достигается вакуум до 10⁻² торр. Доступен безмасляный вариант насоса. Антикоррозионный манометр имеет диапазон измерения 3,8×10⁻⁵–1125 торр, газонезависимое измерение и сменный сенсорный элемент. Узел подачи и смешивания газа рассчитан на четыре независимых канала, оснащён клапанами из нержавеющей стали 316, баком смешивания диаметром 80 мм и высотой 120 мм, а также цветной сенсорной панелью. Рабочая температура расходомеров составляет 5–45 °C, максимальное давление — 3×10⁶ Па, точность — ±1,5 % полной шкалы, линейность — ±(0,5–1,5) % полной шкалы, повторяемость — ±0,2 % полной шкалы. Диапазон расхода первого канала составляет 0–100 см³/мин, второго и третьего — по 1–199 см³/мин, четвёртого — 1–499 см³/мин при стандартных условиях. Предусмотрено дистанционное управление температурным профилем через ПК.

Наименование производителя

1200℃ PECVD Tube Furnace with 4 Channel Gas Delivery and Vacuum Pump for Thin Film Deposition and Nanomaterial Growth, 1200C Max. Slid-able Dual Zone PECVD Furnace W/ Gas Delivery & Vacuum Pump - OTF-1200X-II-PEC4SL-LD