Артикул: 516-279 Модель: ЕСИ-44(4Я) Секция: Дополнительная

Плазменно-ассистированная плавильная печь

Плазменно-ассистированная плавильная печь оснащена вакуумной камерой из нержавеющей стали с внутренним диаметром 315 мм и высотой 315 мм. Для входного питания требуется переменный ток 208–240 В, частота 50/60 Гц, трёхфазная схема и ток 50 А. *

*) Описание оборудования дано в том виде, в котором его подготовил иностранный производитель. Техническая и эстетическая доработка текста уже в планах инженеров отдела 91Т. Скоро мы уточним терминологию и технические характеристики, проверим нюансы и доработаем текст так, чтобы описание ЕСИ-44(4Я) было исчерпывающим, а назначение и возможности оборудования — понятными и доступными. Если ждать не хочется — напишите нам вопрос прямо сейчас.

Наименование производителяVMP-1750 Plasma-Assisted Melting Furnace for Metal Recovery From Oxide Slags and Industrial Waste Slag Recycling System
Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает плавильная печь

Плазменно-ассистированная плавильная печь применяется в технологическом процессе извлечения металлов из оксидных шлаков и переработки промышленных шлаковых отходов.

Характеристики ЕСИ-44(4Я)

Модель (по базе 91Т)ЕСИ-44(4Я)
Материалвакуумная камера из нержавеющей стали
Входная мощность208–240 В переменного тока, 50/60 Гц, три фазы, 50 А
Вакуумная камера из нержавеющей сталивнутренний диаметр 315 мм × высота 315 мм
Плавильная печь - гибкость поставки.
Каждый проект имеет свои особенности, и мы это учитываем. Именно поэтому по запросу мы уточним у производителя, возможна ли корректировка технических характеристик, типоразмеров и комплектации ЕСИ-44(4Я) под условия применения (руками первого изготовителя или собственного производства в России).

Дата актуализации информации: 26.09.26

Производитель и параметры оборудования проверены.

Люди, которые искали Плавильная печь, также смотрели:

Компактный источник питания для магнетронного распыления+1 фото

Компактный источник питания для магнетронного распыления

Модель: СВЕ-17(5Ж)
Источник питания предназначен прежде всего для источника магнетронного распыления. Эффективность устройства превышает 90 %, а уровень запасённой энергии на выходе остаётся низким. Встроенная схема подавляет дуговой разряд в процессах, чувствительных к дуге, и управляет дугой при продолжительных дуго
Желоб для приспособления на пять капиллярных трубок+3 фото

Желоб для приспособления на пять капиллярных трубок

Модель: РЭВ-91(4Б)
Желоб с покрытием из ПТФЭ предназначен для приспособления на пять капиллярных трубок. Размеры желоба составляют 175 × 35 × 210 мм в порядке длина × ширина × высота.
Программируемая погружная установка+1 фото

Программируемая погружная установка

Модель: ВПЯ-14(1Э)
Установка рассчитана на пять рабочих позиций и оснащена сушильной печью объёмом 225 л.
Высоковакуумная система термического испарения с четырьмя источниками+1 фото

Высоковакуумная система термического испарения с четырьмя источниками

Модель: ЖЛУ-95(7Г)
Оборудование предназначено для нанесения тонкоплёночных покрытий.