Специальные лабораторные принадлежности

Товары

Ротационная трубчатая печь

Система объединяет два двухканальных клапана, один канал подачи жидкой и паровой фазы и четыре канала подачи газа. Панель управления параметрами подачи технологических сред размещена на мобильной тележке; управление выполняется программируемым логическим контроллером через сенсорный экран диагональю

Лабораторная комбинированная трубчатая печь высокого вакуума, 1200 °C

Модель: ПЕМ-44(9П)

Входное питание печи осуществляется от однофазной сети переменного тока напряжением 208–240 В при максимальной мощности 4 кВт. Выходная мощность регулируется в диапазоне от 5 до 500 Вт, стабильность составляет ±1 %. Габариты печи — 700 × 1410 × 2250 мм по ширине, длине и высоте соответственно.

+3 фото

Встроенная установка термического испарения

Модель: ИРХ-41(1П)

Установка работает в двухпостовом перчаточном боксе с системой очистки, поддерживающей содержание кислорода и влажность ниже одной части на миллион. Нагревательная камера изготовлена из нержавеющей стали 304, имеет размеры 400 × 400 × 450 мм и оснащена смотровым окном диаметром 101,6 мм с защитной п

+3 фото

Печь для нанесения покрытий с вращающимся держателем пластин

Модель: ХПЭ-85(9Ж)

Печь оснащена вакуумной камерой из нержавеющей стали с внутренним диаметром 500 мм и высотой 460 мм. Турбонасос обеспечивает уровень вакуума 10⁻⁵ торр, а механический насос — 10⁻² торр. В верхней и нижней части камеры расположены инфракрасные нагреватели с регулируемым зазором 2–25 мм. Нагреватели в

+1 фото

Прецизионный источник питания для испарения

Модель: ТАЖ-41(2Ю)

Прецизионный источник питания для испарения обеспечивает выходное напряжение 0–5 В постоянного тока, выходной ток 0–300 А и максимальную выходную мощность 300 Вт. Точность источника составляет 0,1%. Цифровое управление поддерживает ручной и автоматический режимы. Сенсорная панель управления имеет ра

+2 фото

Высоковакуумная круглая нагревательная плита

Модель: ЛФА-85(1Э)

Нагревательная плита предназначена для системы магнетронного распыления. Круглая нагревательная поверхность имеет диаметр 101,6 мм. Максимальная рабочая температура составляет 800 °C. Габаритные размеры изделия — 362 × 350 × 192 мм (длина × ширина × высота).

Система электроформования и электроспрея

Модель: ФВИ-84(8Б)

Система работает с воздушной поддержкой процесса.

Настольная сверхбыстрая высоковакуумная печь для горячего прессования с регулируемым давлением, до 2900 °C, 16 кВт

Модель: РКИ-44(2Х)

Настольная печь оснащена вакуумной камерой с кварцевой трубкой диаметром 152,4 мм, герметизируемой верхним и нижним фланцами. Вакуум может достигать 7 × 10^-3 торр при использовании механического насоса и 5 × 10^-5 торр при использовании молекулярного насоса. Предусмотрены ручной и автоматический ре

+5 фото

Плазменная установка очистки, камера 5 л, мощность 100 Вт, частота 13,56 МГц

Модель: ЭШФ-41(9Л)

Установка оснащена кварцевой камерой диаметром 152,4 мм и длиной 165,1 мм. Она обрабатывает подложки или пластины размером до 101,6 мм с применением плазмы воздуха, кислорода либо аргона. Максимальная скорость удаления органических загрязнений при высокой радиочастотной мощности составляет около 20

+2 фото

Полностью автоматическая алмазная проволочная пила с наружным защитным кожухом

Модель: ЖРЯ-79(9П)

Полностью автоматическая алмазная проволочная пила выполняет непрерывную прецизионную резку образцов после задания программы: образец подаётся без ручной регулировки. Поворотный рабочий стол позволяет задавать угол резки. Точность размеров после обработки составляет ±10 мкм. Однопроволочная система

+1 фото

Высоковакуумная система термического испарения с четырьмя источниками

Модель: ЖЛУ-95(7Г)

Оборудование предназначено для нанесения тонкоплёночных покрытий.

+4 фото

Высоковакуумная система термического испарения

Модель: ЮЛП-95(5Д)

Система термического испарения оснащена шестью источниками. Материал системы — нержавеющая сталь. Размеры составляют 2440 × 780 × 900 (Д × Ш × В).

+4 фото

Компактная настольная установка термического испарения

Модель: ФНИ-87(8К)

Настольная установка термического испарения оснащена программируемым регулятором температуры и работает в диапазоне 200–1700 °C. Нагрев выполняется вольфрамовой спиралью; для металлических материалов предусмотрен тигель из оксида алюминия, а температуру контролирует термопара типа B. ПИД-регулирован

+4 фото

Система термического испарения с четырьмя источниками

Модель: НЮТ-22(1И)

Система оснащена прецизионным блоком контроля температуры.

+4 фото

Компактная вакуумная установка с сенсорным экраном

Модель: ШГЮ-89(2Т)

Установка выполняет испарительное нанесение углерода и металлов.

+4 фото

Магнетронная распылительная пушка с гибкой головкой для источников диаметром 25,4 мм

Модель: ЭРЕ-88(1Х)

Магнетронная распылительная пушка выполнена для работы в условиях высокого вакуума и допускает использование аргона при рабочем давлении примерно от 1 мторр до 1 торр. Снижение числа столкновений газа внутри камеры способствует повышению качества покрытия. Круглые редкоземельные магниты отделены от

+1 фото

Компактный источник питания для магнетронного распыления

Модель: СВЕ-17(5Ж)

Источник питания предназначен прежде всего для источника магнетронного распыления. Эффективность устройства превышает 90 %, а уровень запасённой энергии на выходе остаётся низким. Встроенная схема подавляет дуговой разряд в процессах, чувствительных к дуге, и управляет дугой при продолжительных дуго

+2 фото

Высоковакуумный магнетронный источник распыления

Модель: СВЮ-72(8Ш)

Источник имеет круглую распылительную головку для мишеней диаметром 50,8 мм и совместим с металлическими, изолирующими, магнитными и немагнитными мишенями. Круглый редкоземельный постоянный магнит обеспечивает равномерность плёнки и использование до 30 % материала мишени. Головка наклоняется на ±25°

+3 фото

Встроенная в перчаточный бокс система магнетронного распыления

Модель: ЕГЯ-89(8Ж)

Перчаточный бокс из нержавеющей стали имеет размеры 1200 × 740 × 900 мм и оснащён откидной передней дверью. Автоматическая продувка удаляет воздух перед рециркуляционной очисткой, а функция автоматической регенерации встроена в панель управления. Две шлюзовые камеры предназначены для передачи крупны

+4 фото

Высоковакуумная установка для магнетронного напыления с четырьмя головками для мишеней диаметром 50,8 мм

Модель: ЭШЖ-79(9Ж)

Установка выполнена по модульной схеме: вакуумная камера, насосный блок и источники питания и управления выделены в отдельные модули, поэтому конфигурацию можно адаптировать к требованиям пользователя. Один источник способен управлять несколькими мишенями, а каждая мишень может получать отдельное уп

+3 фото

Гибридная система нанесения тонких плёнок

Модель: ХГЭ-11(4Г)

Система объединяет ВЧ-магнетронное распыление и термическое испарение.

+1 фото

Лабораторная установка для плазменного напыления покрытия на порошок с тремя головками для радиочастотного режима и режима постоянного тока, а также с системой очистки газа

Модель: ХСЭ-85(5Ю)

Входная мощность установки составляет 2000 Вт и включает вакуумный насос и водяной охладитель.

+4 фото

Установка магнетронного распыления с головкой 50,8 мм

Модель: ПФА-15(4Я)

Установка магнетронного распыления оснащена одной головкой с водяной рубашкой, которая устанавливается в кварцевую камеру с помощью быстрозажимного соединения. Вакуумная камера изготовлена из высокочистого кварца и имеет наружный диаметр 160 мм, внутренний диаметр 150 мм и высоту 250 мм. Уплотнитель

+4 фото

Высокоточная настольная установка магнетронного распыления для нанесения тонких пленок

Модель: РКИ-82(9Л)

Установка оснащена распылительной головкой диаметром 50,8 мм, держателем образца с регулировкой высоты и ручной заслонкой для очистки перед распылением. Высота от образца до мишени регулируется в диапазоне 25–70 мм. Время процесса настраивается в пределах 1–120 с. Напряжение распыления составляет 50